1、7nm光刻机与前几代光刻机相比，具有更高的分辨率和更精细的曝光技术。

2、7nm光刻机是经过几代光刻机的积累和改良而成，生产线的稳定运行和成本效益也得到了更好的保障。

3、7nm光刻机的应用范围也得到了扩展。除了传统的半导体芯片生产，它还能够用于生产其他高科技产品，如集成电路、微机电系统(MEMS)以及光子学芯片等。

4、7nm光刻机的出现，代表了半导体生产技术的历史性进步。